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等離子拋（pāo）光在（zài）金屬表麵處理行業的應用
- 作者：admin
- 發表時間：2018-12-18 01:18:13
- 來源：本站
1.一般（bān）需（xū）要做真空鍍膜或真空鍍膜的產品，在鍍膜（mó）前都會（huì）先做清洗工（gōng）藝，部份客戶取用等離子拋光工（gōng）藝，然後再（zài）做真空鍍膜工藝。特別是對於那些用布輪或者是麻（má）輪做過拋（pāo）光（guāng）處理的產品就顯得尤為重要。因（yīn）為產品在經過輪（lún）子拋光後易留下輪紋，造成（chéng）表麵陰（yīn）陽色或顏色不均勻（yún）現象發生，這樣經過真空鍍膜後就會呈現得更為明（míng）顯，呈現出（chū）鍍膜顏色不均勻，陰陽（yáng）麵等。
2.采用等離子拋光工藝比清洗工藝良率要多30%以上，給前工序拋光工藝為拋除表麵的輪紋減小很大壓力（lì），產能明顯上升。主要原因是天天干中文字幕2023利用等離子拋光能（néng）夠很好的提高產品的光澤度、降（jiàng）低產品表麵粗（cū）糙度及提高表麵硬度。
3.拋光鐳射後（hòu）再做真空鍍膜的產品也需要先做清（qīng）洗工藝，然後再做真空鍍膜工藝。這是因為（wéi）產品（pǐn）在鐳射時表麵容易產（chǎn）生發黃和吸附一些廢渣，簡單的清洗根（gēn）本去除（chú）不幹淨。如果清洗不幹淨則會造成真空鍍膜顏色不均和麻點等不良現象。采用等離子拋光工藝，可使產品清潔度大大提高，使良率明顯提升10一20%。
4.拋光拉（lā）絲後再做真空鍍膜的產品也需要先做等離子拋光工藝，然後再做真空（kōng）鍍膜。這是因為產品在拉絲過程中很容易使砂礫拉傷表（biǎo）麵或者尼龍絲（sī）被（bèi）高溫燒焦（jiāo）吸附在工件拉絲位，簡單的清洗根本沒辦法去除幹淨。如果（guǒ）清洗不幹淨也會給真空鍍膜（mó）造成麻點，砂（shā）眼和顏色不均。
5.需要真空鍍膜的產品，前工序（xù）最好先做等離子拋光，因（yīn）為等（děng）離子拋光可以充分去除工件衝裁麵的批鋒、利角和表麵髒汙。從而使（shǐ）得真空鍍膜的（de）膜附著力大大增強，特別是（shì）衝裁（cái）麵的邊角（jiǎo）位不易脫膜，能將鍍膜附著力良率提高15%以上。
6.等離子拋光工藝還有退（tuì）掉鍍膜的功效，我（wǒ）們隻要通過特定的（de）拋光劑，在短的時間(30~1805)就可（kě）以完全脫掉（diào）鍍膜。這樣大大節省脫膜時間。對於那些表麵（miàn）真空鍍氮化碳或氮化鉻的產品，脫膜相對較難，通過等離子拋光也能完全將（jiāng）表麵膜（mó）層（céng）去除幹淨，但是拋光時間需要延長一倍以上。雖說拋光時間（jiān）相對增加，但仍然（rán）不會傷到基材表麵，相反會大大增（zēng）加返鍍的良率(因為等（děng）離子拋光（guāng）能很好提高表麵的光澤度，降低表麵粗糙度，使表麵平滑，光潔，導電性能好)。退鍍前產品圖片退（tuì）鍍後產品圖片綜（zōng）上所述，等離子拋光的確是（shì）真空鍍膜（mó）或真空鍍膜（mó）前處（chù）理不可缺（quē）少的工藝，並且以對人體無傷害，對（duì）環（huán）境無汙染，成本低的絕對優勢壓倒電（diàn）解工藝，同時也為真（zhēn）空鍍膜或真空鍍膜解除更多的不良（liáng）因素，為真空鍍（dù）膜或真空鍍膜出高品質的產品而多做貢獻。
2.采用等離子拋光工藝比清洗工藝良率要多30%以上，給前工序拋光工藝為拋除表麵的輪紋減小很大壓力（lì），產能明顯上升。主要原因是天天干中文字幕2023利用等離子拋光能（néng）夠很好的提高產品的光澤度、降（jiàng）低產品表麵粗（cū）糙度及提高表麵硬度。
3.拋光鐳射後（hòu）再做真空鍍膜的產品也需要先做清（qīng）洗工藝，然後再做真空鍍膜工藝。這是因為（wéi）產品（pǐn）在鐳射時表麵容易產（chǎn）生發黃和吸附一些廢渣，簡單的清洗根（gēn）本去除（chú）不幹淨。如果清洗不幹淨則會造成真空鍍膜顏色不均和麻點等不良現象。采用等離子拋光工藝，可使產品清潔度大大提高，使良率明顯提升10一20%。
4.拋光拉（lā）絲後再做真空鍍膜的產品也需要先做等離子拋光工藝，然後再做真空（kōng）鍍膜。這是因為產品在拉絲過程中很容易使砂礫拉傷表（biǎo）麵或者尼龍絲（sī）被（bèi）高溫燒焦（jiāo）吸附在工件拉絲位，簡單的清洗根本沒辦法去除幹淨。如果（guǒ）清洗不幹淨也會給真空鍍膜（mó）造成麻點，砂（shā）眼和顏色不均。
5.需要真空鍍膜的產品，前工序（xù）最好先做等離子拋光，因（yīn）為等（děng）離子拋光可以充分去除工件衝裁麵的批鋒、利角和表麵髒汙。從而使（shǐ）得真空鍍膜的（de）膜附著力大大增強，特別是（shì）衝裁（cái）麵的邊角（jiǎo）位不易脫膜，能將鍍膜附著力良率提高15%以上。
6.等離子拋光工藝還有退（tuì）掉鍍膜的功效，我（wǒ）們隻要通過特定的（de）拋光劑，在短的時間(30~1805)就可（kě）以完全脫掉（diào）鍍膜。這樣大大節省脫膜時間。對於那些表麵（miàn）真空鍍氮化碳或氮化鉻的產品，脫膜相對較難，通過等離子拋光也能完全將（jiāng）表麵膜（mó）層（céng）去除幹淨，但是拋光時間需要延長一倍以上。雖說拋光時間（jiān）相對增加，但仍然（rán）不會傷到基材表麵，相反會大大增（zēng）加返鍍的良率(因為等（děng）離子拋光（guāng）能很好提高表麵的光澤度，降低表麵粗糙度，使表麵平滑，光潔，導電性能好)。退鍍前產品圖片退（tuì）鍍後產品圖片綜（zōng）上所述，等離子拋光的確是（shì）真空鍍膜（mó）或真空鍍膜（mó）前處（chù）理不可缺（quē）少的工藝，並且以對人體無傷害，對（duì）環（huán）境無汙染，成本低的絕對優勢壓倒電（diàn）解工藝，同時也為真（zhēn）空鍍膜或真空鍍膜解除更多的不良（liáng）因素，為真空鍍（dù）膜或真空鍍膜出高品質的產品而多做貢獻。
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