鋅合金鑽石頭等離(lí)子拋光
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- 發(fā)表時間:2018-09-08 05:47:16
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金屬表麵電解質等離(lí)子拋光技術適用於對金屬(shǔ)表麵拋光,消除毛刺(cì),磨鈍尖(jiān)刃,清理焊接縫,清除材料表麵的(de)氧化色(sè)、氧化(huà)皮和汙(wū)漬,表麵除油等等(děng)。該項技術應用前景廣闊,包括:對複雜結構零件的拋光處理,對航空航天精密零件(jiàn)的表麵處理,對兵器高質量零件的表麵拋光,對各類的機器(qì)與儀表零部件的精加工,對化學設備(bèi)抗腐蝕零件的拋光精加工,對醫療設備和醫療移植零件的拋光(guāng)加工,對螺旋槳推進器和液壓設備葉片的拋(pāo)光加工,對食品加工業設備零件和(hé)不鏽鋼餐具製品的拋光加工,以及對衛生技(jì)術設備、照明(míng)設備的零件、家具配件的拋光加工等。
以下為(wéi)鋅合金鑽石頭等離子拋光後對(duì)比:
拋光參數:
溶液濃度 | 溶液溫度 | 電壓 | 電流 | 拋光時間 |
2% | 85℃+ | 330V | 5A | 180S |
拋光後產品的優點:光亮度提升、粗(cū)糙度降低、表麵砂(shā)痕減少